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感應耦合等離子刻蝕機(ICP)

功能:其他
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儀器型號:SI500
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發布人:管理員
詳情 details

可提供高速率、高選擇比以及低損傷的刻蝕。等離子體能夠在低氣壓下保持穩定,因此能夠更好地控制刻蝕形貌。可以刻蝕Si, SiO2, 金屬薄膜等,氮氣、氬氣、 CHF3、SF6、 O2、 Cl2、 BCl3?。


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