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電子束曝光系統(EBL)

功能:電子裝調
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儀器型號:JC Nabity NPGS V9.1
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發布人:管理員
詳情 details

利用電子束在光致抗蝕劑表面上掃描,直接產生圖案。

曝光尺寸為幾十納米到微米級可調。

最小線寬:40-50 nm,束斑選擇:納米級是2.0 微米級是2.5 。

面積:200*200 μm,加速電壓:30 kV。


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